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鍍膜靶材是用物理或化學的方法在靶材表面鍍上一層透明的電解質(zhì)膜,或鍍一層金屬膜,目的是改變靶材表面的反射和透射特性.而鍍膜的方法有真空鍍膜和光學鍍膜,有不少用戶不知道這二者的區(qū)別,今天中諾新材的小編就給大家講解下真空鍍膜和光學鍍膜的區(qū)別是什么.

一、概念的區(qū)別

1、真空鍍膜是指在高真空的條件下加熱金屬或非金屬材料,使其蒸發(fā)并凝結(jié)于鍍件(金屬、半導體或絕緣體)表面而形成薄膜的一種方法.例如,真空鍍鋁、真空鍍鉻等.

2、光學鍍膜是指在光學零件表面上鍍上一層(或多層)金屬(或介質(zhì))薄膜的工藝過程.在光學零件表面鍍膜的目的是為了達到減少或增加光的反射、分束、分色、濾光、偏振等要求.常用的鍍膜法有真空鍍膜(物理鍍膜的一種)和化學鍍膜.

二、原理的區(qū)別

1、真空鍍膜是真空應用領域的一個重要方面,它是以真空技術(shù)為基礎,利用物理或化學方法,并吸收電子束、分子束、離子束、等離子束、射頻和磁控等一系列新技術(shù),為科學研究和實際生產(chǎn)提供薄膜制備的一種新工藝.簡單地說,在真空中把金屬、合金或化合物進行蒸發(fā)或濺射,使其在被涂覆的物體(稱基板、基片或基體)上凝固并沉積的方法.

2、光的干涉在薄膜光學中廣泛應用.光學薄膜技術(shù)的普遍方法是借助真空濺射的方式在玻璃基板上涂鍍薄膜,一般用來控制基板對入射光束的反射率和透過率,以滿足不同的需要.為了消除光學零件表面的反射損失,提高成像質(zhì)量,涂鍍一層或多層透明介質(zhì)膜,稱為增透膜或減反射膜.

隨著激光技術(shù)的發(fā)展,對膜層的反射率和透過率有不同的要求,促進了多層高反射膜和寬帶增透膜的發(fā)展.為各種應用需要,利用高反射膜制造偏振反光膜、彩色分光膜、冷光膜和干涉濾光片等.光學零件表面鍍膜后,光在膜層層上多次反射和透射,形成多光束干涉,控制膜層的折射率和厚度,可以得到不同的強度分布,這是干涉鍍膜的基本原理.

三、方法和材料的區(qū)別

1、真空鍍膜的方法材料:

(1)真空蒸鍍:將需鍍膜的基體清洗后放到鍍膜室,抽空后將膜料加熱到高溫,使蒸氣達到約13.3Pa而使蒸氣分子飛到基體表面,凝結(jié)而成薄膜.

(2)陰極濺射鍍:將需鍍膜的基體放在陰極對面,把惰性氣體(如氬)通入已抽空的室內(nèi),保持壓強約1.33~13.3Pa,然后將陰極接上2000V的直流電源,便激發(fā)輝光放電,帶正電的氬離子撞擊陰極,使其射出原子,濺射出的原子通過惰性氣氛沉積到基體上形成膜.

(3)化學氣相沉積:通過熱分解所選定的金屬化合物或有機化合物,獲得沉積薄膜的過程.

(4)離子鍍:實質(zhì)上離子鍍系真空蒸鍍和陰極濺射鍍的有機結(jié)合,兼有兩者的工藝特點.表6-9列出了各種鍍膜方法的優(yōu)缺點.

2、常見的光學鍍膜材料

(1)氟化鎂:無色四方晶系粉末,純度高,用其制光學鍍膜可提高透過率,不出崩點.

(2)二氧化硅:無色透明晶體,熔點高,硬度大,化學穩(wěn)定性好.純度高,用其制備高質(zhì)量Si02鍍膜,蒸發(fā)狀態(tài)好,不出現(xiàn)崩點.按使用要求分為紫外、紅外及可見光用.

(3)氧化鋯:白色重質(zhì)結(jié)晶態(tài),具有高的折射率和耐高溫性能,化學性質(zhì)穩(wěn)定,純度高,用其制備高質(zhì)量氧化鋯鍍膜,不出崩點.

四、膜厚的區(qū)別

真空鍍膜一般金屬材料電鍍出來的膜厚度大概是3-5微米.光學鍍膜的膜厚測試可以在鍍膜機的中間頂上裝置膜厚測試儀即可.早期使用的是光控測試,現(xiàn)在一般用晶振片,使用的是晶振片震動的頻率來測試鍍膜的厚度.不同膜層的厚度不同.

以上內(nèi)容就是真空鍍膜和光學鍍膜區(qū)別的介紹,希望能幫到大家.真空鍍膜的過程很復雜,只是因為都需要高真空度而得名,光學鍍膜的鍍膜材料都是稀有金屬,這些材料隨著科技的發(fā)展其需求可能會增長.中諾新材(北京)科技有限公司,是一家專業(yè)生產(chǎn)有色金屬材料,蒸發(fā)鍍膜材料以及濺鍍靶材產(chǎn)品的高新技術(shù)企業(yè),公司主要從事高純鍍膜材料、濺射靶材等產(chǎn)品的研究、開發(fā)、生產(chǎn)和服務.以高純化,合金化等核心技術(shù)為基礎,開發(fā)出電子信息,半導體,太陽能光伏等行業(yè)用新型材料,如果您有需要,歡迎與中諾新材聯(lián)系!